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中國(guó)《專利法》第三次修改中職務(wù)發(fā)明創(chuàng)造獎(jiǎng)酬制度安排的改革

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從專利法角度,中國(guó)職務(wù)發(fā)明創(chuàng)造獎(jiǎng)酬通常被稱為“一獎(jiǎng)二 酬”?!耙华?jiǎng)”是指單位在獲準(zhǔn)職務(wù)發(fā)明創(chuàng)造專利權(quán)時(shí),依法給予發(fā) 明人的獎(jiǎng)勵(lì)。中國(guó)《專利法》第三次修改過(guò)程中,職務(wù)發(fā)明創(chuàng)造獎(jiǎng) 酬曾經(jīng)是最引人注目的重點(diǎn)和焦點(diǎn)之一。例如,在2008年2月公 開征求意見的修改稿中,將原第16條改為第17條,在原有第1款 “被授予專利權(quán)的單位應(yīng)當(dāng)對(duì)職務(wù)發(fā)明創(chuàng)造的發(fā)明人或者設(shè)計(jì)人 給予獎(jiǎng)勵(lì);發(fā)明創(chuàng)造專利實(shí)施后,根據(jù)其推廣應(yīng)用的范圍和取得的 經(jīng)濟(jì)效益,對(duì)發(fā)明人或者設(shè)計(jì)人給予合理的報(bào)酬”的表述之后,增 加了第2款:“對(duì)職務(wù)發(fā)明創(chuàng)造的發(fā)明人、設(shè)計(jì)人的獎(jiǎng)勵(lì)、報(bào)酬的方式和數(shù)額由獲得專利權(quán)的單位與職務(wù)發(fā)明創(chuàng)造的發(fā)明人、設(shè)計(jì)人 約定。沒有約定的,按照國(guó)家有關(guān)規(guī)定確定?!钡阶詈笤凇秾@?法》條文中沒有作任何修改,上述增加的第2款被刪去了,仍然原 封不動(dòng)保持《專利法》第16條的第1款的表述。但是,在《專利法 實(shí)施細(xì)則》中卻對(duì)職務(wù)發(fā)明創(chuàng)造獎(jiǎng)酬的法律規(guī)范進(jìn)行了根本性的 改革。中國(guó)《專利法》第三次修改中延伸到《專利法實(shí)施細(xì)則》的這 一改革,可以說(shuō)是在總結(jié)中國(guó)原有的已經(jīng)歷時(shí)25年的職務(wù)發(fā)明創(chuàng) 造報(bào)酬制度的基礎(chǔ)上,進(jìn)一步借鑒、學(xué)習(xí)了日本現(xiàn)行《專利法》第 35條的經(jīng)驗(yàn)而提升制訂的。

關(guān)于“一獎(jiǎng)”,原《專利法實(shí)施細(xì)則》第74條明確規(guī)定:“被授予 專利權(quán)的國(guó)有企業(yè)事業(yè)單位應(yīng)當(dāng)自專利權(quán)公告之日起3個(gè)月內(nèi)發(fā) 給發(fā)明人或者設(shè)計(jì)人獎(jiǎng)金。一項(xiàng)發(fā)明專利的獎(jiǎng)金最低不少于 2 000元;一項(xiàng)實(shí)用新型專利或者外觀設(shè)計(jì)專利的獎(jiǎng)金最低不少于 500元。”《專利法》第三次修改后配套的《專利法實(shí)施細(xì)則》第76 條規(guī)定:“被授予專利權(quán)的單位可以與發(fā)明人或者設(shè)計(jì)人約定專利 法第十六條規(guī)定的獎(jiǎng)勵(lì)、報(bào)酬的方式和數(shù)額?!钡?7條進(jìn)一步明 確:“被授予專利權(quán)的單位未與發(fā)明人或者設(shè)計(jì)人約定專利法第十 六條規(guī)定的獎(jiǎng)勵(lì)的方式和數(shù)額的,應(yīng)當(dāng)自專利權(quán)公告之日起3個(gè) 月內(nèi)發(fā)給發(fā)明人或者設(shè)計(jì)人獎(jiǎng)金。一項(xiàng)發(fā)明專利的獎(jiǎng)金最低不少 于3 000元;一項(xiàng)實(shí)用新型專利或者外觀設(shè)計(jì)專利的獎(jiǎng)金最低不 少于1 000元

關(guān)于“二酬”,原《專利法實(shí)施細(xì)則》第75條規(guī)定:“被授予專利 權(quán)的國(guó)有企業(yè)事業(yè)單位在專利權(quán)有效期限內(nèi),實(shí)施發(fā)明創(chuàng)造專利 后,每年應(yīng)當(dāng)從實(shí)施該項(xiàng)發(fā)明或者實(shí)用新型專利所得利潤(rùn)納稅后 提取不低于2%或者從實(shí)施該項(xiàng)外觀設(shè)計(jì)專利所得利潤(rùn)納稅后提 取不低于0.2%,作為報(bào)酬支付發(fā)明人或者設(shè)計(jì)人;或者參照上述比例,發(fā)給發(fā)明人或者設(shè)計(jì)人一次性報(bào)酬。”第76條規(guī)定:“被授予 專利權(quán)的國(guó)有企業(yè)事業(yè)單位許可其他單位或者個(gè)人實(shí)施其專利 的,應(yīng)當(dāng)從許可實(shí)施該項(xiàng)專利收取的使用費(fèi)納稅后提取不低于 10%作為報(bào)酬支付發(fā)明人或者設(shè)計(jì)人J《專利法》第三次修改后配 套的《專利法實(shí)施細(xì)則》第78條規(guī)定:“被授予專利權(quán)的單位未與 發(fā)明人或者設(shè)計(jì)人約定專利法第十六條規(guī)定的報(bào)酬的方式和數(shù)額 的,在專利權(quán)有效期限內(nèi),實(shí)施發(fā)明創(chuàng)造專利后,每年應(yīng)當(dāng)從實(shí)施 該項(xiàng)發(fā)明或者實(shí)用新型專利的營(yíng)業(yè)利潤(rùn)中提取不低于2%或者從 實(shí)施該項(xiàng)外觀設(shè)計(jì)專利的營(yíng)業(yè)利潤(rùn)中提取不低于0.2%,作為報(bào) 酬給予發(fā)明人或者設(shè)計(jì)人,或者參照上述比例,給予發(fā)明人或者設(shè) 計(jì)人一次性報(bào)酬;被授予專利權(quán)的單位許可其他單位或者個(gè)人實(shí) 施其專利的,應(yīng)當(dāng)從收取的使用費(fèi)中提取不低于10%,作為報(bào)酬 給予發(fā)明人或者設(shè)計(jì)人。”

需要強(qiáng)調(diào)的是,《專利法》第三次修改后,已經(jīng)將支付職務(wù)發(fā)明 創(chuàng)造“一獎(jiǎng)二酬”的主體推展至所有“被授予專利權(quán)的單位”。原 《專利法實(shí)施細(xì)則》規(guī)定的支付職務(wù)發(fā)明創(chuàng)造“一獎(jiǎng)二酬”的主體是 “被授予專利權(quán)的國(guó)有企業(yè)事業(yè)單位”,其第77條明確:“本章關(guān)于 獎(jiǎng)金和報(bào)酬的規(guī)定,中國(guó)其他單位可以參照?qǐng)?zhí)行?!钡?,“可以參 照?qǐng)?zhí)行”的結(jié)果是可以參照?qǐng)?zhí)行,也可以不參照?qǐng)?zhí)行。例如,凰門 市中級(jí)人民法院(2004)民初字第346號(hào)案件①,即“謝文南訴明達(dá) 玻璃(廈門)有限公司職務(wù)發(fā)明創(chuàng)造報(bào)酬糾紛”一案的判決中,法院 就明確認(rèn)為非國(guó)有企業(yè)可以不參照?qǐng)?zhí)行。但是,在《專利法》第三 次修改后配套的新《專利法實(shí)施細(xì)則》的上述條文中,已經(jīng)將支付職務(wù)發(fā)明創(chuàng)造“一獎(jiǎng)二酬”的主體由“被授予專利權(quán)的國(guó)有企業(yè)事 業(yè)單位”推展至所有“被授予專利權(quán)的單位”。換言之,從國(guó)有性質(zhì) 單位擴(kuò)展到了所有單位(包括外資獨(dú)資、中外合資、中外合作和外 國(guó)企業(yè)單位)。

同樣需要強(qiáng)調(diào)的是,《專利法》第三次修改后,已經(jīng)將職務(wù)發(fā)明 創(chuàng)造“一獎(jiǎng)二酬”的支付模式改變?yōu)椤凹s定優(yōu)先,無(wú)約定則遵循法律 規(guī)定二原《專利法實(shí)施細(xì)則》關(guān)于“一獎(jiǎng)二酬”的規(guī)定都是直接的 明確規(guī)范,不可通過(guò)約定而改變。如上所述,新《專利法實(shí)施細(xì)則》 已明確設(shè)置“約定優(yōu)先”的原則和程序,有約定從其約定,無(wú)約定再 遵循法律規(guī)定。

還要說(shuō)明的是,《專利法》第三次修改后的“一獎(jiǎng)”的最低支付 標(biāo)準(zhǔn)線略有提高,發(fā)明專利權(quán)的職務(wù)獎(jiǎng)勵(lì)由“不少于2 000元”提高 為“不少于3000元”,實(shí)用新型專利權(quán)和外觀設(shè)計(jì)專利權(quán)的職務(wù)獎(jiǎng) 勵(lì)均由“不少于500元”提高為“不少于1 000元”。而《專利法》第三 次修改前后的“二酬”最低支付標(biāo)準(zhǔn)線表面上似乎沒有變化,都是 從實(shí)施該項(xiàng)發(fā)明專利或者實(shí)用新型專利的利潤(rùn)中提取不低于 2%,或者從實(shí)施該項(xiàng)外觀設(shè)計(jì)專利的利潤(rùn)中提取不低于0.2%;但 是,原《專利法實(shí)施細(xì)則》規(guī)定的提成基數(shù)是“所得利潤(rùn)納稅后”,新 《專利法實(shí)施細(xì)則》規(guī)定的提成基數(shù)卻已經(jīng)變成“營(yíng)業(yè)利潤(rùn)”。

其實(shí),中國(guó)關(guān)于職務(wù)發(fā)明創(chuàng)造、職務(wù)技術(shù)成果的獎(jiǎng)勵(lì)與報(bào)酬等 的法律規(guī)范不僅僅是《專利法》,還有《促進(jìn)科技成果轉(zhuǎn)化法》、《合 同法》等,存在“規(guī)自多法,政出多規(guī)定不一,有所沖突”的特點(diǎn)。


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